產品詳情
LPCVD低壓化學氣相沉積設備（科研型LPCVD）是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。
設備結構及特點
1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本
兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。
基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。
基片形狀類型：不規則形狀的散片、φ2～4英寸標準基片。
2、設備為水平管臥式結構
由石英管反應室、隔熱罩爐體柜、電氣控制系統、真空系統、氣路系統、溫控系統、壓力控制系統及氣瓶柜等系統組成。
反應室由高純石英制成，耐腐蝕、抗污染、漏率小、適合于高溫使用; 設備電控部分采用了先進的檢測和控制系統，量值準確，性能穩定、可靠。
3、系統提供自動控制無揚塵裝置
LPCVD設備主要技術指標
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類型 |
參數 |
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成膜類型 |
Si3N4、Poly-Si、SiO2等 |
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zui*gao溫度 |
1200℃ |
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恒溫區長度 |
根據用戶需要配置 |
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恒溫區控溫精度 |
≤±0.5℃ |
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工作壓強范圍 |
13～1330Pa |
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膜層不均勻性 |
≤±5％ |
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基片每次裝載數量 |
標準基片：1～3片；不規則尺寸散片:若干 |
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壓力控制 |
閉環充氣式控制 |
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裝片方式 |
手動進出樣品 |
設備功能
該設備是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。
可提供相關鍍膜工藝。
設備結構及特點：
設備為水平管臥式結構，由石英管反應室、隔熱罩爐體柜、電氣控制系統、真空系統、氣路系統、溫控系統、壓力控制系統及氣瓶柜等系統組成。
反應室由高純石英制成，耐腐蝕、抗污染、漏率小、適合于高溫使用; 設備電控部分采用了先進的檢測和控制系統，量值準確，性能穩定、可靠。
整個工藝過程由計算機對全部工藝流程進行管理，實現爐溫、氣體流量、壓力、閥門動作、泵的啟閉等工藝參數進行監測和自動控制。也可以手動控制。
設備主要技術指標
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類型 |
參數 |
|
成膜類型 |
Si3N4、Poly-Si、SiO2等 |
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zui*gao溫度 |
1200℃ |
|
恒溫區長度 |
根據用戶需要配置 |
|
恒溫區控溫精度 |
≤±0.5℃ |
|
工作壓強范圍 |
13～1330Pa |
|
膜層不均勻性 |
≤±5％ |
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基片每次裝載數量 |
100片 |
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設備總功率 |
16kW |
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冷卻水用量 |
2m3/h |
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壓力控制 |
閉環充氣式控制 |
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裝片方式 |
懸臂舟自動送樣 |
LPCVD手動運行界面
LPCVD實時運行監控界面
LPCVD自動運行界面
LPCVD工藝編制界面
關于我們
鵬城微納技術（沈陽）有限公司，由哈爾濱工業大學（深圳）與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于技術前沿、市場前沿和產業前沿的交叉點，尋求創新yin*ling與可持續發展，解決產業的痛點和國產化難題，爭取產業鏈的自主可控。
鵬城微納技術（沈陽）有限公司是鵬城半導體技術（深圳）有限公司全資子公司，是半導體和泛半導體工藝和裝備的設計中心和生產制造基地。
公司核心業務是微納技術與gao*duan精密制造，具體應用領域包括半導體和泛半導體材料、工藝、裝備的研發設計、生產制造、工藝技術服務及裝備的升級改造，可為用戶提供工藝研發和打樣，可為生產企業提供生產型設備，可為科學研究提供科研設備。
公司人才團隊知識結構完整，有工程師哈工大教授和博士，為核心的高水平材料研究和工藝研究團隊，還有來自工業界的高級裝備設計師團隊，他們具有30多年的半導體材料研究、外延技術研究和半導體薄膜制備成套裝備設計、生產制造的經驗。
公司依托于哈爾濱工業大學（深圳），具備xian*jin的半導體研發設備平臺和檢測設備平臺，可以在高起點開展科研工作。公司總部位于深圳市，具備半導體和泛半導體裝備的研發、生產、調試以及器件的中試、生產、銷售的能力。
公司團隊技術儲備及創新能力
1998~2002
-設計了中試型的全自動化監控的MOCVD，用于外延硅基GaN
-設計制造了聚氨酯薄膜的卷繞式鍍膜機
2005
-設計制造了中國di*yi臺wan*quan自主知識產權的MBE(分子束外延設備)，用于外延光電半導體材料
2007
-設計超高溫CVD 和MBE，用于4H晶型SiC外延生長
-設計制造了光學級金剛石生長設備（采用熱激發技術和CVD技術）
2015
-設計制造了金剛石涂層制備設備，制備了金剛石電極、微米晶和納米晶金剛石薄膜、導電金剛石薄膜
2017
-優化Rheed設計，開始生產型MBE設計
-開始研發PSD方法外延GaN的工藝和裝備
2019
-設計制造了大型熱絲CVD金剛石薄膜的生產設備
2021
-鵬城半導體技術（深圳）有限公司成立
2022
-子公司鵬城微納成立；
-熱絲CVD設備、高真空磁控濺射儀、電子束蒸鍍機、分子束外延與磁控濺射聯用設備多套出貨
-獲得ISO9001質量管理體系證書
2023
-PSD方法外延GaN裝備與工藝的技術攻關；
-科技型中小企業-入庫編號202344030500018573；
-創新型中小企業；
-獲50+項知識產權zhuan*li；
-企業信用評價3A*信用企業；/ISO三體系認證；
-子公司晶源半導體成立
2024~2026
-與jun*gong和上市頭部企業合作取得突破（X 光感受板及光電器件的薄膜生長等）
-鵬城微納子公司擴產
-TGV/TSV/TMV
-微光探測、醫療影像、復合硬質涂層
-gao*xin*ji*shu企業
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