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基本上,兩種濺鍍機都可鍍著金屬薄膜。日本HD有鉻金屬諧波CSF-32-50-2A-GR但后者特別可以針對非金屬薄膜,如壓電(piezoelectric)或磁性材料,具有「絕緣、熔點高、成份復雜、對堆棧方式相當敏感」等智能型薄膜之鍍著特征。
1、 金屬薄膜圖形定義
利用光蝕術定義妥之光阻,泡入適當酸液中,可蝕出金屬線路日本HD有鉻金屬諧波CSF-32-50-2A-GR,此與蒸鍍抑或濺鍍并無關連。然而部份金屬蝕液是堿液,如鉻,早期常用「赤血鹽-氫氧化鉀」溶液來定義圖案,直接用光阻遮掩會失敗(還沒蝕到底,光阻已經溶散了!),所以必須多蒸著一層金,間接以碘化鉀-碘溶液定義出金之圖案后,再以金之圖案來作掩膜,進行鉻的腐蝕(如此之繁復,常使初學者暈頭轉向,現在已經有鉻金屬的蝕洗液)。另一個令人更擾人的問題在于:酸液有側向侵蝕的日本HD有鉻金屬諧波CSF-32-50-2A-GR現象,所以無法制作出次微米之金屬線。



