產品詳情
這是一種典 型的負性光刻膠。柯達公司的產品KPR膠即屬此類。 哈默納科光刻機諧波齒輪CSF-17-50-2UH感光樹脂在用近紫外光輻照成像時,光的波長會限 制分辨率(見感光材料)的提高。為進一步提高分辨率 以滿足超大規模集成電路工藝的要求,必須采用波長更 短的輻射作為光源。由此產生電子束、X 射線和深紫外 (<250nm)刻蝕技術和相應的電子束刻蝕膠,哈默納科光刻機諧波齒輪CSF-17-50-2UHX射線刻蝕 膠和深紫外線刻蝕膠,所刻蝕的線條可細至1□m以下。 光刻機 光刻機用于將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝設備,可以在晶圓表面會留下帶有微圖形結構的薄膜。
刻蝕機 電子回旋共振等離子體刻蝕機涉及的是一種集成電路制作工哈默納科光刻機諧波齒輪CSF-17-50-2UH藝中的微電子芯片加工設備。結構具有真空室、微波系統



