產品詳情
曝光過程包括:聚焦、對準、曝光、步進和重復以上過程。
光學曝光技術經歷了不同的發展階段。harmonic光刻機系統諧波CSF-25-160-2A-GR按照掩模版與硅片的位置關系區分,從最初的接觸式曝光,發展到接近式曝光,直到現在的投影式曝光。曝光光源主要使用紫外光、深紫外光、harmonic光刻機系統諧波CSF-25-160-2A-GR極紫外光,現今最常用的是:汞燈和準分子聚光光源。
光刻設備的發展和使用經歷了五個不同階段,分別是:接觸式光刻機、接近式光刻機、掃描投影光刻機、分步重復光刻機、步進掃描光刻機。
曝光與對準過程主要由光刻機完成。harmonic光刻機系統諧波CSF-25-160-2A-GR光刻機造價高昂,是非常復雜的系統,涉及的技術也非常多。光刻機是芯片生產的關鍵設備,也是電子制造的核心技術設備



