產品詳情
純凈水設備典型工藝流程簡介：
1．預處理→一級反滲透→二級反滲透→純水箱→純水泵→用水點
（產水電阻率大于0.5 MΩ.cm）
2． 預處理→反滲透→純化水箱→離子交換器→純水泵→用水點
（產水電阻率大于10 MΩ.cm）
3．預處理→一級反滲透→二級反滲透→EDI裝置→純化水箱→純水泵→用水點
（產水電阻率大于15 MΩ.cm）
4．預處理→一級反滲透裝置→二級反滲透裝置→中間水箱→紫外除T0C裝置→脫
氣裝置→EDI裝置→紫外除T0C裝置→脫氣裝置→氮封純水箱→雙級拋光混床→終
端超濾裝置→用水點（產水電阻率大于18 MΩ.cm）
應用領域:
電子工業用水 集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水
制藥行業用水 制藥行業 輸液、針劑、片劑、生化制品、設備清洗等
化工行業工藝用水 化工循環水、化工產品制造等
電力行業 鍋爐補給水 火力發電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動力系統等
食品工業用水 飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等
海水、苦咸水淡化 海島、艦船、海上鉆井平臺、苦咸水地區等
飲用純凈水 房產物業、社區、企事業單位等
超聲波清洗用水 電腦配件、特種材料、精密機械等行業的超聲波清洗線
電鍍行業用水 清洗工件用水,槽液用水
