產品詳情
Ipsen氧探頭是應用于工業氣氛爐系統中的關鍵傳感器，用于實時測量爐內氧分壓，并參與碳勢（Carbon Potential）計算與控制。
作為全球領先的熱處理設備制造商，Ipsen在其密封淬火爐、推盤爐及連續爐系統中，長期集成氧探頭與氣體分析系統，實現對氣氛的jing確控制。
該類氧探頭通常基于氧化鋯固體電解質原理，直接安裝于爐體內部進行原位（In-situ）測量，是熱處理氣氛控制系統的核心組成部分。
性能參數與核心優勢（Perbance & Key Benefits）
■ 原位氧分壓測量與碳勢控制能力
- 測量原理：氧化鋯固體電解質（ZrO?）
- 輸出信號：mV級電勢信號
- 應用：碳勢計算（Cp）
優勢說明：
直接反映爐內真實氣氛狀態，是實現滲碳、碳氮共滲等工藝閉環控制的基礎。
■ 高溫工況穩定運行能力
- 工作溫度：約700℃～1050℃（典型熱處理區間）
- 適配爐型：密封爐、推盤爐、連續爐
優勢說明：
適用于主流熱處理工藝溫區，在連續生產環境中保持穩定輸出。
■ 快速響應與動態調節能力
- 響應時間：<1秒（工業典型水平）
優勢說明：
快速捕捉爐氣變化，使碳勢控制系統調節更及時，減少過沖和波動。
■ 系統級集成能力（Ipsen核心特點）
- 與氣體分析系統（CO/CO?、露點）聯動
- 集成碳控軟件系統
Ipsen系統中通常同時監測多變量（氧探頭、CO/CO?、露點等）實現氣氛綜合控制。
優勢說明：
不是單點測量，而是構成完整氣氛控制體系，提高控制精度與穩定性。
■ 高可靠結構與長期運行能力
- 高溫耐熱保護管
- 工業級密封結構
優勢說明：
適應熱處理爐內高溫、積碳及復雜氣氛環境，確保長期穩定運行。
聯系人 叢女士：185 - 6080 - 9862
