產品詳情
真空伺服電機 - 高真空環境的精準動力解決方案
核心特點
專為真空環境研發的特種伺服電機，采用超低出氣材料與全密封設計，確保在10?3Pa至高真空環境下穩定運行，保持卓越的定位精度和動態響應性能。
關鍵技術
材料工藝：采用不銹鋼殼體、無氧銅繞組、聚酰亞胺絕緣材料
密封技術：全焊接密封結構，軸封采用磁流體密封技術
潤滑方案：固體潤滑或特種真空潤滑脂，確保超低出氣率
溫度適應：支持高溫烘烤除氣，工作溫度范圍-20℃至+150℃
主要應用
半導體制造：光刻機、刻蝕機、PVD/CVD設備內部驅動
真空鍍膜：卷繞鍍膜、光學鍍膜設備的精密傳動
科研儀器：電子顯微鏡、粒子加速器、真空分析設備
航天領域：空間環境模擬設備、衛星部件測試裝置
選型建議
明確真空度要求（低真空/高真空/超高真空）
確認工作溫度范圍及是否需要烘烤功能
評估負載特性與運動控制精度需求
考慮系統兼容性與安裝空間限制
產品優勢
出氣率＜10?11 Pa·m3/s·cm2
保持IP68同級密封性能
支持定制化設計與特殊認證
提供完整真空適配解決方案
核心特點
專為真空環境研發的特種伺服電機，采用超低出氣材料與全密封設計，確保在10?3Pa至高真空環境下穩定運行，保持卓越的定位精度和動態響應性能。
關鍵技術
材料工藝：采用不銹鋼殼體、無氧銅繞組、聚酰亞胺絕緣材料
密封技術：全焊接密封結構，軸封采用磁流體密封技術
潤滑方案：固體潤滑或特種真空潤滑脂，確保超低出氣率
溫度適應：支持高溫烘烤除氣，工作溫度范圍-20℃至+150℃
主要應用
半導體制造：光刻機、刻蝕機、PVD/CVD設備內部驅動
真空鍍膜：卷繞鍍膜、光學鍍膜設備的精密傳動
科研儀器：電子顯微鏡、粒子加速器、真空分析設備
航天領域：空間環境模擬設備、衛星部件測試裝置
選型建議
明確真空度要求（低真空/高真空/超高真空）
確認工作溫度范圍及是否需要烘烤功能
評估負載特性與運動控制精度需求
考慮系統兼容性與安裝空間限制
產品優勢
出氣率＜10?11 Pa·m3/s·cm2
保持IP68同級密封性能
支持定制化設計與特殊認證
提供完整真空適配解決方案
專業真空伺服電機，為您的精密真空系統提供可靠、潔凈、精準的動力支持。
